가동 목표가 2030~2032년으로 밀린 일정

인텔 발표에 따르면 오하이오 원(One) 캠퍼스의 생산 가동은 2030년 이후에 이뤄지며, 전 공장이 모두 가동되는 시점은 2031~2032년으로 조정됐다. 회사는 2025년 2월 건물 외피 완공 후 내부 공정 착수를 생산 시장 상황에 맞추겠다고 밝혔다. 인텔은 투자 규모 280억달러(약 38조6000억원) 계획 자체는 유지하는 입장이다.

'더 느린 속도로 계속 짓는다'는 인텔 공식 입장

인텔 보도자료에 따르면 회사는 오하이오 건설에 대해 "더 느린 속도로 계속 진행한다"는 표현을 공식적으로 썼다. 이는 공사 중단이 아니라 일정 조정임을 회사 스스로 명시한 문구다. 인텔은 생산 수요에 맞춰 공사 속도를 조절하는 전략이라고 강조했다.

출처: 조사 출처

벡텔 채용 공고와 '진행 중' 상태가 남긴 흔적

시공사 벡텔의 공식 채용 사이트에는 오하이오 팹 관련 채용 공고가 올라와 있었고, 프로젝트 상태는 'Active'로 표시됐다. 벡텔은 인텔 오하이오 원 프로젝트의 주요 시공 파트너로서 현장 인력을 계속 모집하고 있었다. 공사가 실제로 멈추지 않았다는 정황을 두 독립된 출처가 함께 뒷받침한다.

2025년에도 반복된 지연 선언과 현장의 무게

인텔은 2025년 2월 뉴스룸 게시물을 통해 오하이오 팹 건물 외피가 완성됐다며 내부 설비 투자는 수요에 따른다고 전했다. 인텔 전 직원 대상 커뮤니케이션에서도 오하이오 일정 조정이 공식 답변으로 확인됐다. 오하이오주와 뉴얼리 지역은 3000개 이상 일자리 창출을 기대하며 공장 완공을 지켜보고 있다.

수요에 맞추는 투자 속도 조절 전략의 향후

인텔은 2026년 2분기 실적 발표에서도 오하이오를 포함한 제조 투자의 속도 조절 방침을 유지하는지가 관심으로 남아 있다. 착공 지연에도 현장 공사가 이어지고 있는지는 벡텔의 채용 동향과 인텔 분기 보고로 계속 확인할 수 있다. 오하이오 팹 일정 지연과 건설 지속이라는 주장은 한정 조건을 감안하면 사실로 판단된다.