【ソウル発】本紙検証デスクは、「米Intelが進めるオハイオ州のsemiconductor製造拠点(fab)は、日程の遅れにもかかわらず建設が続いている」とする主張について、一次資料12件を基に検証を実施した。2025年2月に撮影された建設現場の空撮画像などを含む資料の確認の結果、同現場での工事は遅延の中でも継続していることが裏付けられた。
今回の検証対象は、「Intelの米オハイオ州fabは、日程の遅れにもかかわらず建設が継続している」という主張である。この主張は二つの要素で構成される。第一に、同fabの日程に遅れが生じていること。第二に、その遅れにもかかわらず、建設現場の工事が停止していないことである。
検証では、2025年2月時点の建設現場を捉えた空撮画像を含む資料群を精査した。画像からは、オハイオ州の敷地内で大規模な工事が進行している様子が確認できる。日程の遅れが報じられる中であっても、現場がactivitiesを維持していることを示す資料として位置づけられる。
検証デスクの分析では、日程の遅れと建設の継続は相反する要素ではないと整理された。遅れは完工時期の後ろ倒しを指すものであり、直ちに工事の停止を意味するものではないためだ。一次資料12件の検討を通じても、建設が中断したことを示す情報は確認されなかった。
以上の検証結果を踏まえ、「Intelの米オハイオ州fabは、日程の遅れにもかかわらず建設が継続している」という今回の主張は、事実と判定された。